電化學水處理器 循環(huán)水綜合除垢設備 循環(huán)水利用設備

簡要描述：電化學水處理器 循環(huán)水綜合除垢設備
它應用高科技技術——電解自動除垢技術與刷式掃描自清洗過濾技術。解決了目前常規(guī)綜合水處理器出現(xiàn)的諸多問題，具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢、防腐、殺菌、滅藻、超凈過濾功能

產(chǎn)品型號： HSRZH

所屬分類：全程綜合處理器

更新時間：2022-11-27

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電化學水處理器 循環(huán)水綜合除垢設備  

 電解水處理器是針對冷卻循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問題：腐蝕、結垢、菌藻污染、粘泥污染，而研制的電解過濾一體化型綜合處理器，由單臺設備代替了需要多臺設備才能完成的處理過程，從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。它應用高科技技術——電解自動除垢技術與刷式掃描自清洗過濾技術。解決了目前常規(guī)綜合水處理器出現(xiàn)的諸多問題，具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢、防腐、殺菌、滅藻、超凈過濾功能，采用機電一體化設計，純電化學方式處理，無需額外添加化學藥劑，阻力小、流量大。而且運行費用極低，操作簡單，維護方便，是各種循環(huán)水系統(tǒng)之選擇。主要是由優(yōu)質(zhì)碳鋼筒體、電解陽極、除垢系統(tǒng)、不銹鋼濾網(wǎng)、刷式掃描式自清洗機構、自動排污閥和控制系統(tǒng)等部分組成。

 電化學水處理器 循環(huán)水綜合除垢設備水在反應室內(nèi)進行處理，經(jīng)歷了電解的過程。在電解過程中，陰極發(fā)生化學反應產(chǎn)生OH-離子，增加反應室內(nèi)壁附近的PH值，加強反應室壁附近的堿性環(huán)境。鄰近反應室的擴散層，擾亂了水垢的化學平衡，形成碳酸鈣從水中析出，附在內(nèi)壁上。同時陰極的電流導致溶解的重金屬元素的離子形成沉淀，沉到反應室底部。沉淀出來的碳酸鈣是那些在冷卻水管路中易于沉積下來的部分。這些有害的沉積，會堵塞管道，產(chǎn)生水垢和增加腐蝕，降低熱交換效率，阻礙生產(chǎn)。能夠把進入反應室水中的鈣的沉淀去除30%以上。這個百分比也會隨著水中的組成而變化。

◆電解預先除垢緩蝕、殺菌滅藻